摘要：化學機械拋光/平坦化(CMP)是一種廣泛用于微電子行業的工藝，通過化學力和機械力的結合來平滑表面。該工藝使用磨蝕性和腐蝕性的漿料來幫助平整晶片表面。CMP漿料是納米級磨粒和其他化學品的復雜混合物，包括表面活性劑、pH調節劑、氧化劑、有...

粒徑分布對Ti-6Al-4V合金粉末流動性和LPBF工藝的影響引言3D打印，也稱為增材制造（AdditiveManufacturing），是一種制造技術，通過將數字化的三維模型切片并逐層構建，從而創建物體的過程。傳統的制造技術通常是通過去除...

高黏度光刻膠顏料分散工藝優化與分析高粘度光刻膠用顏料介紹光刻膠是利用光化學反應經曝光、顯影、刻蝕、去膠等工藝將需要的圖形從掩模版轉移到待加工襯底上的材料。經曝光后，光刻膠在顯影液中溶解度會發生變化，從而可以形成圖案。光刻膠是國際上技術門檻最...

液體濃度監測器是一種用于測量液體樣品中特定組分濃度的設備。它可以通過不同的監測方法來實現，下面是常見的幾種監測方法及其優勢：光學方法：光學方法利用特定波長的光線與樣品發生相互作用，根據吸收、散射或熒光等現象來確定樣品中組分的濃度。這些方法具...

單槽壁掛式在線濃度監測儀是一種常用的設備，用于實時監測氣體或液體的濃度。以下是安裝該設備的一般技術要求：安裝位置選擇：選擇一個合適的安裝位置，距離被監測物質源頭較近且易于操作和維護。需要確保設備與周圍環境有足夠的通風，并遠離其他干擾源。固定...

在線激光粒度儀是一種先進的儀器，用于實時監測和測量懸浮物或粉體的顆粒大小分布。它采用激光散射原理，結合先進的光學和信號處理技術，能夠快速、準確地獲取顆粒的尺寸信息。其工作原理是基于散射光的特性。當激光束照射到樣品中的顆粒上時，顆粒會散射光線...

大乳粒分析儀集自動進樣、自動稀釋、自動檢測、數據處理以及自動清洗等全自動檢測功能于一身，為用戶提供可方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析。其搭載的LE系列傳感器采用光阻法+光散法單顆粒光學傳感技術（SPOS），擁有512通道的超高分辨率，并搭載...

AccuSizer®FXNano清洗方法FXNano傳感器的污染和推薦的清潔方法在過去的幾年里，已經制造了很多FXNano傳感器，在正常工作條件下，硬件組件（激光模塊和電子電路板）基本上沒有出現故障。簡而言之，這些硬件組件的可靠性非...